First-Nano System GmbH
2003年 創立于德國德累斯頓工業大學（Dresden University of Technology）
2008年 香港成立德國韋氏納米系統（香港）有限公司
2015年 上海成立德國韋氏納米系統（香港）有限公司中國代表處，負責中國區業務
2018年 深圳正式成立韋氏納米系統（深圳）有限公司，更好的為中國南方區市場
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產品范圍：
薄膜沉積/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
技術參數：
Toho FLX-2320-S薄膜應力計精確測量多種襯底材料、金屬和電介質等薄膜應力。
主要特點：
◆雙光源掃描（可見光激光源及不可見光激光源），系統可自動選擇適合的匹配之激光源；
◆系統內置升溫、降溫模擬系統，便于量測不同溫度下薄膜的應力，溫度調節范圍為-65℃至500℃；
◆自帶常用材料的彈性系數數據庫，并可根據客戶需要添加新型材料相關信息至數據庫，便于新材料研究；
◆形象的軟件分析功能，用于不同測量記錄之間的比較，且測量記錄可導出成Excel等格式的文檔；
◆具有薄膜應力3D繪圖功能。
用戶界面：
WINDOWS OS易懂操作界面。
另搭載豐富的基板材料數據庫。自動保存測量數據等方便性能。
每個用戶可分別設定訪問權限。使用自帶軟件實現簡單卻性能高，簡單測量。
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