工作條件：工作環境溫度5-35℃；濕度≤70%；電源220V/50/60Hz。
主要用途：美國Novascan加熱型紫外臭氧清洗機廣泛用于納米技術、化學、生物、光學、電子、半導體及世界各地實驗室。主要應用領域：預處理表面圖案化工具；清潔硅和氮化硅探針；晶圓清洗；表面氧化及制備；提高表面親水性；表面清洗；制備薄膜沉積；紫外光固化；表面圖案化；清洗光學鏡頭；粘接硅橡膠；表面消毒；清潔MEMS器件；可處理材料表面：氮化硅、金屬、玻璃、云母、石英、陶瓷、聚合物。
系統組成:
1）紫外臭氧清洗機 主機 1臺 2) 可變工作臺(內置) 1個
3) 微處理器(內置) 1個 4) Thermal UV,溫度高達200℃ 1套
技術參數：
美國Novascan加熱型紫外臭氧清洗機是科研級紫外臭氧清洗機，有效清洗尺寸大于12.5x12.5cm的樣品；
樣品臺單元：
1.樣品臺尺寸大于12.5x12.5cm； 大處理樣品高度大于10cm；
2.※樣品高度可調，可以合理定位樣品高度和位置，位置可鎖定。
3.※樣品臺可加熱控溫，控溫范圍：室溫-200℃；
4.清洗腔打開方式：上開式；
5.360度樣品放置：打開清洗腔上開式，允許360度自由放置樣品；
紫外燈單元
UV格柵燈：低壓汞格柵燈，燈管壽命大約為5000小時；
UV反射罩：UV反射罩有效范圍大于12.5x12.5cm；；
紫外燈波長：185nm和254nm。
典型強度：28-32Mw/cm2 @253.7nm
控制單元
可編程PID數字控制器，可準確設定和控制曝光時間、處理時間、樣品高度、樣品加熱等各項參數；
系統運行過程可執行暫停、終止或重新啟動等指令；
倒計時方式數字顯示；
內置存儲器，記憶可調取上一次處理的參數設置。
安全裝置
安全聯鎖機制，清洗腔打開系統自動關掉UV燈；
過溫保護：用戶可設置允許的極限溫度，實際溫度達到用戶設置溫度后，系統自動關機。
※雙標準氣路：符合標準的進出氣接口，可根據用戶需要訂制，可接入氧氣，增加臭氧產量。
可選配臭氧清除機，可在直接在實驗室桌面上使用紫外臭氧清洗機，不需要通風櫥，操作安全方便。樣品處理過后不需等待，可以直接取出，節省時間。
可選配雙UV燈系統，可以同時對樣品頂部和底部進行處理，操作更方便，效果更好，也更節省時間。
