電漿清洗機設備公司：誠峰智造
全自動On-Line式AP等離子處理系統CRF-APS-500W
型號（Model）
CRF-APS-500W
電源（Power supply）
220V/AC,50/60Hz
功率（Power）
1000W(Max)/13.56MHz
有效處理寬幅（Processing width）
120mm-2000mm(Option)
有效處理高度（Processing height）
1mm-3mm（Max）
處理速度（Processing speed）
0-5m/min
工作氣體（Gas）
AR+O2
產品特點：低溫處理過程，處理溫度可< 35℃以下；
內置式冷卻系統，提高和保證設備的使用壽命和性能；
靈活On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達10eV以上，材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。
應用范圍：應用于FPC&PCB表面處理，復合型材料，玻璃，ITO等行業領域的表面處理；
等離子體處理可對材料進行有效的表面凈化、表面活化、表面粗化、表面刻蝕、表面沉積。
可有效去除物體表面有機污染物和氧化物。
主要特點：濕洗法清洗，表面一般都會有殘留，而低溫等離子體表面處理能做到超高潔凈度的表面，且低溫等離子體只對材料納米級的表面起作用，不會改變材料原有的特性，在對表面潔凈度要求較高的工藝中，正在取代濕法處理工藝而得到廣泛使用。
處理機理：主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。氣體被激發為等離子態；重粒子撞擊固體表面；電子與活性基團與固體表面發生反應解析為新的氣相物質而脫離表面。
等離子體清洗技術的特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。
