plasma真空等離子清洗機供應商：誠峰智造
真空式等離子處理系統CRF-VPO-MC-6L
名稱（Name）
真空式等離子處理系統
型號（Model）
CRF-VPO-MC-6L
控制系統（Control system）
PLC+觸摸屏
電源（Power supply）
380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中頻電源功率（MF Power）
2000W/40kHz
容量（Volume）
235L（Option）
層數（Electrode of plies）
6（Option）
有效處理面積（Area）
500（L）*500（W）（Option）
氣體通道（Gas）
兩路工作氣體可選： Ar、N2、CF4、O2
產品特點：處理空間大，提升處理產能，采用PLC+觸摸屏控制系統，有效控制設備運行。
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數，滿足客戶的需求。
保養維修成本低，便于客戶成本控制。
高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能和專業的支持。
應用范圍：主要適用于生物醫療行業，印制線路板行業，半導體IC領域，硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業，工業等。
