應用與特點:
全譜直讀光譜儀采用國際標準的設計和制造工藝技術,采用全數字化技術,替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術,與國際光譜儀技術同步,采用真空光學室設計及全數字化激發光源、的CCD檢測器、高速數據讀出系統,使儀器具有*的性能、極低的檢出線、長期的穩定性和重復性。適用于金屬制造業、加工業及金屬冶煉業用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的主要設備之一。
技術指標:
項目指標:檢測基體 Fe、Cu、Al、Pb、Zn、Sn、Ni等
檢測時間:試樣品類型而定,一般25s左右
光學系統:帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學系統
波長范圍:130~850nm
焦距:400mm
探測器:高性能CCD陣列
電極:鎢材噴射電極
分析間隙:3.4mm
工作溫度:(10~35)℃
存儲溫度:(0~45)℃
工作濕度:20%~80%
氬氣純度要求:99.999%
氬氣進口壓力:0.5MPa
氬氣流量:激發流量約3.5L/min,維持流量約0.4L/min
激發功率:400VA
光源類型:全新可調節數字化光源,高能預燃技術(HEPS)
放電頻率:100-1000 Hz
放電電流:400A
激發臺孔徑:13mm
真空系統:真空軟件自動控制、監測
工作電源:220V AC,50/60Hz,保護性接地的單相電源
儀器尺寸:725*865*550(mm)
儀器重量:80kg