一.真空等離子表面處理機介紹:
真空等離子清洗機,是在真空的負壓下,以電能將氣體轉化為活性*的氣體等離子體,沖刷固體樣品表面,引起分子結構的改變,從而達到對樣品表面有機污染物進行超清洗,其清洗能力可以達到分子級。在一定條件下還能使樣品表面特性發生改變。加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性,也能對樣品進行消毒和殺菌。等離子清洗機現已廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、高分子、生物醫學、微觀流體學等領域。對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物(如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進行超清洗??梢杂行У氖共AА⑺芰?、陶瓷等材料表面活化,加強這些材料粘附性、相容性、浸潤性。還能夠對其進行消毒,殺菌等??梢詫Σ煌螤畋砻娲植诔潭鹊牟牧媳砻孢M行超清洗和改性,可以定時、快速處理。使用期間不會產生污染物,效率高效環保。
二.參數介紹
技術參數Specifications | |
電源Input Voltage | AC380V |
電源頻率Frequency | 40kHz,13.56MHz(Option) |
電源功率Power | 1000W-5000W |
控制系統Control System | PLC+觸摸屏 |
外形尺寸Outline Dimension | 1290mm(W)×1350mm(D)×1860mm(H) |
空倉容量Capacity of Vacuum Chamber | 125L(可根據需求定制) |
真空倉尺寸Dimension of Vacuum Chamber | 500mm(L)×500mm(W)×500mm(H) |
真空倉材質Material of Vacuum | 304不銹鋼 |
層數Electrode of Plies | 10層 |
重量Weight | 180kg |
氣體通道Gas Passage | 二路工藝氣體配置(可用氣體:氬氣、氧氣、氮氣、空氣) Two-way Process Gas Configuration (Available Gas:Ar,O2,N2,Air) |
三.等離子清洗機提高硅膠表面光滑度
硅膠是一種耐熱的橡膠,用處非常多,但因其表面帶有負極和靜電,而灰塵剛好又是帶有正極的東西,剛好正負相吸,使得硅膠極易粘上灰塵,又難以清理,利用等離子清洗機對表面進行處理后,可以對硅膠表面進行改性,讓其改為正極,極大解決了生產商的困擾,而且還可以批量生產,大大的提高了廠商的生產效率。處理效果圖如下。
可批量處理 處理前后對比圖
四.真空等離子處理機的特點:
GD-125型等離子清洗機,PLC+觸摸屏控制,功率密度大,處理效率高,上下料簡單。高性能等離子發生器,可激發更為穩定的等離子體。廣泛應用于等離子清洗、刻蝕、等離子鍍膜、等離子涂覆、等離子活化和表面改性等場合。通過其處理,能夠改善材料的潤濕能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作、增強粘合力、鍵合力、同時去除有機污染物、油污或油脂等。