等離子一體機凈化設備是一種專門去除氣體及惡臭氣體的一種裝置。它具有 、運行成本低、設備占地面積小，自重輕、無任何機械動作，無噪音等特點，等離子光解一體機凈化設備凈化效率在以上。是目前市場上 佳的廢氣凈化設備。
2、適用范圍：等離子光解一體機凈化設備主要運用于油漆噴涂、造紙頁、制藥業、輪胎及橡膠生產廠、汽車生產、污水處理、污泥廢氣處理、垃圾處理廢氣、皮革業、印刷廠、香料生產業、飼料及飼養場、農藥生產以及煙草業等等多個的氣體、異味和惡臭處理。涉及氣體物質多達900多種，主要包括：硫化氫、氨氮類、硫醇類、硫醚類、吲哚類、苯類、硝基類、烴類以及醛類等類別。
3、反應原理
當廢氣進入等離子一體機凈化設備內時，先經過等離子體化學反應過程，即電子 先從電場獲得能量，通過激發或電離將能量轉移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發，同時有部分分子被電離， 從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩定產物和熱。(在外加電場的作用下，介質放電產生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發，然后便引發了一系列復雜的物理、化學反應，使復雜大分子污染物轉變為簡單小分子 物質，或使物質轉變成 或低毒低害的物質，從而使污染物得以降解去除。)
然后部分廢氣再通過破壞、分解、催化氧化把污染氣體分解為 無味氣體。采用 C波段光線強裂污染氣體分子鏈，改變物質分子結構，將高分子污染物質裂解、氧化成為低分子物質，如水和二氧化碳等。O3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 可地殺滅，將物質破壞且改變成為低分子物質。在C波段激光刺激催化劑涂層產生活性，催化氧化作用。在分解過程中產生 高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧對物具有的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有的 效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 裂解惡臭氣體中的分子鍵，破壞的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應， 達到脫臭及殺 的目的。
等離子一體機產品特點：
1、工藝簡潔、操作簡單,方便，無需專人看管，需要定期清洗等離子發生體。
2、節能：能耗低，運行費用低廉。
3、適應條件：在-60℃~+300℃的環境內均可正常運轉,特別是在潮濕,甚至空氣濕度飽和的環境下仍可正常運行。
4、設備使用壽命長：設備由不銹鋼材，石英、鉬等材料組成， 性強，在酸性氣體中。
