NF-300H
HTM PECVD設備
產品特點
- 高產能設計和可實現多種薄膜沉積的快速切換
- 可實現多層SiO2,SiN(ONON)堆疊功能
- 滿足300-600℃高溫沉積需求
- PM腔內可進行多片wafer沉積和wafer自動升降旋轉功能
- 通過S2安全認證
NF-300H
HTM PECVD設備
產品特點
- 高產能設計和可實現多種薄膜沉積的快速切換
- 可實現多層SiO2,SiN(ONON)堆疊功能
- 滿足300-600℃高溫沉積需求
- PM腔內可進行多片wafer沉積和wafer自動升降旋轉功能
- 通過S2安全認證
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