反滲透膜清洗液選擇
常規清洗液配方提供的清洗溶液是將一定重量的化學藥品加入到100加侖的潔凈水中。溶液是按所用化學藥品和水量的比例配制的。溶劑是RO產品水或去離子水,無游離氯和硬度。清洗液進入膜元件之前,要求混和均勻,并按照目標值調pH值且胺目標溫度值穩定溫度。常規的清洗方法基于化學清洗溶液循環清洗一小時和一種任選的化學藥劑浸泡一小時的操作而設定的。
6常規清洗液介紹
%檸檬酸的低pH清洗液。以于去除無機鹽垢、金屬氧化物/氫氧化物及無機膠體十分有效。
%鹽酸低pH清洗液,主要用于去除無機物垢,金屬氧化物/氫氧化物,及無機膠體。這種清洗液比溶液1要強烈些,因為鹽酸是強酸。鹽酸的下述濃度值是有效的:。
%氫氧化鈉高pH清洗液。用于去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強烈的堿性清洗液。
7RO膜元件的清潔和沖洗程序
RO膜元件可置于壓力容器中,在高流速的情況下,用循環的清潔水流過膜元件的方式進行清洗。RO的清洗程序取決于具體情況,必要時更換用于循環的清潔水。
RO膜元件的常規清洗程序如下:
在60psi或更低壓力條件下進行低壓沖洗,
即從清洗罐中向壓力容器中泵入清潔水然后排放掉,運行幾分鐘。沖洗水必須是潔凈的、去除硬度、不含過渡金屬和余氯的RO產品水或去離子水。
在清洗罐中配制特定的清洗溶液。配制用水必須是去除硬度、不含過渡金屬和余氯的RO產品水或去離子水。溫度和pH應調到所要求的值。
啟動清洗泵將清洗液泵入膜組件內,循環清洗約一小時或是要求的時間。在起始階段,清洗液返回至RO清洗罐之前,將最初的的回流液排放掉,以免系統內滯留的水對清洗溶液造成稀釋。在最初的5分鐘內,慢慢地將流速調節到*設計流速的1/3。這可以減少由污物的大量沉積而造成的潛在污堵。在第二個5分鐘內,增加流速至*設計流速的2/3,然后,再增加流速至設計的*流速值。假如需要,當pH的變化大于1,就要重新調回到原數值。
根據需要,可交替采用循環清洗和浸泡程序。浸泡時間建議選擇1至8小時。要謹慎地保持合適的溫度和pH。
化學清洗結束之后,要用清潔水進行低壓沖洗,從清洗裝置/部件中去除化學藥劑的殘留部分,排放并沖洗清洗罐,然后再用清潔水注滿清洗罐以作沖洗之用。從清洗罐中泵入所有的沖洗水沖洗壓力容器至排放。假如需要,可進行第二次清洗。
一旦RO系統已用貯水
罐中的清潔水沖洗后,就可用預處理給水進行最終的低壓沖洗。給水壓力應低于60psi,最終沖洗持續進行直至沖洗水干凈,且不含任何泡沫和清洗劑殘余物。通常這需要15~60分鐘。操作人員可用干凈的燒瓶取樣,搖勻,監測排放口處沖洗水中洗滌劑和泡沫的殘留情況。洗液的去除情況可用測試電導的方法進行,如沖洗水至排放出水的電導在給水電導的10~20%以內,可認為沖洗已接近終點;pH表也可用于測定,來比較沖洗水至排放出水與給水的pH值是否接近。
一旦所有級段已清洗干凈,且化學藥劑也已沖洗掉,RO可重新開始置于運行程序中,但初始的產品水要進行排放并監測,直至RO產水可滿足工藝要求。為得到穩定的RO產水水質,這一段恢復時間有時需要從幾小時到幾天,尤其是在經過高pH清洗后。
8反滲透膜的化學清洗與水沖洗
清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環,此時膜元件仍裝在壓力容器內而且需要專門的清洗裝置來完成該工作。
清洗反滲透膜元件的一般步驟:
一、用泵將干凈、無游離氯的反滲透產品水從清洗箱打入壓力容器中并排放幾分鐘。
二、用干凈的產品水在清洗箱中配制清洗液。
三、將清洗液在壓力容器中循環1小時或預先設定的時間
四、清洗完成以后,排凈清洗箱并進行沖洗,然后向清洗箱中布滿干凈的產品水以備下一步沖洗。
五、用泵將干凈、無游離氯的產品水從清洗箱打入壓力容器中并排放幾分鐘。
六、在沖洗反滲透系統后,在產品水排放閥打開狀態下運行反滲透系統,直到產品水清潔、無泡沫或無清洗劑。
2、膜技術在電子工業純水制造中的應用
