otsukael顯微鏡分光膜厚儀 紫外光譜儀

otsukael顯微鏡分光膜厚儀OPTM的介紹

otsukael顯微鏡分光膜厚儀OPTM的介紹

產品信息

• 膜厚測量范圍 1 nm 至 92 μm（SiO ₂換算）

• 薄膜厚度值的高重復性

• 每點1秒以內的高速測量

• 圖案可瞄準微小點（最小Φ3μm）

• 適用于圖案化晶圓的膜厚測繪

• 可以獲取用于圖案對齊的圖像

• 可在紫外-可見（300 至 800 nm）波長范圍內測量橢圓參數

• 能夠分析納米級多層薄膜的膜厚

• 通過 400 通道或更多通道的多通道光譜快速測量橢圓光譜

• 支持通過可變反射角測量對薄膜進行詳細分析

• 通過創建光學常數數據庫和添加配方注冊功能提高可操作性

• 橢圓參數（tanψ，cosΔ）測量

• 光學常數（n：折射率，k：消光系數）分析

• 膜厚分析

• 半導體ウェーハ
  ゲート酸化薄膜，窒化膜
  SiO₂，SixOy，SiN，SiON，SiNx，Al₂O₃，SiN_xO_y，poly-Si，ZnSe， BPSG，TiN
  レジストの光學定數(波長分散)

• 化合物半導體
  Al_xGa_(1-x)As 多層膜，アモルファスシリコン

• FPD
  配向膜

• 各種新素材
  DLC(Diamond Like Carbon)，超伝導用薄膜，磁気ヘッド薄膜

• 光學薄膜
  TiO₂，SiO₂，反射防止膜

• リソグラフィー分野
  g線(436nm)，h線(405nm)，i線(365nm)などの各波長におけるn，k評価

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