描述
產品優勢：
? 可制備各種金屬、 單質、 無機非金屬薄膜
? 不破真空情況下， 可實現多層復合膜制備
? 一鍵操作， 全自動控制， 智能化程度高
? 一致性、 重復性好
? 內置多重靶材工作參數， 無需摸索鍍膜工藝
? 體積小， 結構緊湊， 非常節約空間
產品參數：
| 外形尺寸（主機） | 424(L)×345(D)×420(H) | 輸入電源 | 220V/50Hz 1000W |
| 濺射靶頭 1 | 直流磁控濺射 | 可用靶材 | 金屬靶材 |
| 濺射靶頭 2 | 射頻磁控濺射 | 可用靶材 | 無機非金屬靶材 |
| 真空系統 | 渦輪分子泵+旋片式真空泵 | 抽速 | 90L/s + 1.1L/s |
| 真空測量 | 復合式真空規 | 量程范圍 | 1E-3 ~ 1E5Pa |
| 真空室 | φ 200×130mm 高硼硅玻璃 | 抽氣節拍 | 10 分鐘（≤5E-3Pa） |
| 樣品臺尺寸 | φ 90mm | 樣品臺切換 | 自動控制 |
| 濺射靶材尺寸 | φ 57mm（厚度 0.1-2mm） | 工作真空 | 0.1-2Pa |
| 操作界面 | 7 英寸 TFT 觸摸式液晶屏 | 操作語言 | 中文（可選其它語言） |
| 冷水機 | 小型臺式制冷機 | 冷水機功率 | 180W |
| 預濺射擋板 | 標配全自動控制預濺射擋板 | ||
|
膜厚儀（選配） | 可實時顯示鍍膜厚度，并通過設定來控制鍍膜過程，測量精度 0.01nm，設定精度 0.1nm，單次設定范圍 1-999nm | ||
| 溫控組件（選配） | 樣品臺加熱模塊 300℃/500℃ | ||
| 旋轉組件（選配） | 傾斜旋轉、行星旋轉等 | ||
| 小車（選配） | 將主機、射頻電源、冷水機等組裝在一起，整體性好 | ||
| 安裝環境 | 220V/10A 三孔插座一個、純度 4N 及以上的高純氬氣（出口壓力 0.12MPa） | ||
