電子工業超純水設備結構
紫外線技術主要應用在消毒和降解TOC方面，電子工業用超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器． 納離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統，紫外線消毒器、RO反滲透主機系統、離子交換混床（ ED I 電，除鹽系統）系統、紫外線TOC處理器等構成主要設備系統。
CS系列
生命科學領域中，觀察對比描述、實驗和人工模擬構成了生命科學的研究方法。而在實驗研究法中，無論是研究微生物、植物、動物還是人類．無論是進行生物實驗還是模擬實驗，建立滿足要求的實驗條件，都是zui終獲得科學客觀實驗數據和結果的必要保證，紫外線技術的應用能夠有效控制實驗用水的微生物污染和TOC指標。
電子工業超純水設備配件表
大中型純水系統常使用全自動軟水器以除去原水中的鈣鎂離子。全自動軟水器由鈉離子樹脂罐、再生鹽箱及多路控制閥組成，能夠設定程序控制運行，自動再生（時間型/流量型兩種控制方式），再生時利用虹吸原理吸鹽，再注水化鹽，再生時間通常為2小時。
小型臺式純水機一般使用10寸/20寸軟水樹脂濾芯來降低原水硬度。
反滲透單元
RO（Reverse Osmosis）反滲透技術是利用壓力表差為動力的膜分離過濾技術，源于美國二十世紀六十年代宇航科技的研究，后逐漸轉化為民用，已廣泛運用于科研、醫藥、食品、飲料、海水淡化等領域。
RO反滲透膜孔徑小至納米級（1納米=10-9米），在一定的壓力下，H2O分子可以通過RO膜，而源水中的無機鹽、重金屬離子、有機物、膠體、細菌、病毒等雜質無法通過RO膜，從而使可以透過的純水和無法透過的濃縮水嚴格區分開來。
RO膜對高價離子、膠體、細菌及分子量大于300 dalton的有機物質（包括熱源）去除率高達99%以上，對低價離子（NA+、K+）去除率達95%，當源水電導率<3505&micro;s/cm，RO純水電導率通常≤55&micro;s/cm，符合國家三級用水標準。再經過原子級離子交換柱循環過濾，出水率可達18.2MΩ.cm。
反滲透法是可達到90%～99%雜質去除率的方法，同時也是試劑級超純水系統的前處理方法。
備注：RO膜的過濾能力受水溫影響較大，的水溫為25℃～30℃，溫度下降1℃，RO膜的產水量約下降3%，當水溫接近0℃時，RO膜將停止產水。
.采用單向浮力閥設計，避免金屬腐蝕、橡膠老化的問題。
工業純水設備/純化水設備紫外線殺菌特點
紫外線殺菌的原理一般認為是生物體內的核酸吸收了紫外光的能量而改變了自身的結構，進而破環了核酸的功能所致。當核酸吸收的能量達到致死量而紫外光的照射又能保持一定時間時，細菌便大量死亡。
1.紫外線殺菌速度快，效率高，效果好。
2. 紫外線照射不會改變水的物理和化學性質，對純水不會帶入附加物所引起的污染。
3. 適用于各種水的流量下，操作簡單，適用方便，只需要定期清洗石英玻璃套管，更換燈管即可。
4. 體積小，輕便，耗電低。
5. 紫外線殺菌沒有持續消毒作用，易受二次污染。 紫外光（UV）的氧化作用。
系 列 流量區間
CW系列：微電子 6m³/h-100 m³/h
CS系列：生命科學 2 m³/h-40 m³/h
CW系列
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。
環保在線