超純水設備去離子設備 反滲透設備

  電子超純水設備去離子設備是采用RO+EDI技術設計，關鍵部件、設備采用進口產品，工藝*，質量可靠，可擴展性強，結構合理占地小，水利用率高，能耗低，全自動化運行，操作維護簡單。根據用戶要求設計制造反滲透系統，一般產水下限0.25m3/hr，上限不限，水回收率一般可達75%以上，脫鹽率＞98%。產水量隨進水溫度下降和反滲透膜老化或受污染有一定變化。我公司采用的現代超純水制造工業
超純水去離子設備典型工藝流程為：
1、預處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點
2、預處理－一級反滲透－二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點
3、預處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點
4、預處理→紫外線殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點水質符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）

超純水設備去離子設備電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗  電子管生產　電子管陰極涂敷碳酸鹽配液  顯像管和陰極射線管生產配料用純水黑白顯像管熒光屏生產　玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水    液晶顯示器的生產　屏面需用純水清洗和用純水配液  晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制集成電路生產中超純水去離子設備清洗硅片。