分子束外延沉積速率監測/控制系統

·交叉離子源，束接收角同軸的橫斷面呈±35°

·離子源控制，用于軟離子化和表觀電勢質譜

·2mm束接受孔，以利特殊使用者操作

·一級過濾處增加射頻，抗污染物能力增強
·內置UHV兼容的水冷卻罩   
·通過RS232、USB或Ethernet連接計算機，MASsoft軟件控制

·質量數范圍：        1～300 amu（標準配置）

                             500amu（選配）

·掃描速度：           100amu/s

·最小掃描步階：     0.01amu

·檢測濃度：           5ppb～99%

·穩定性：              24h以上，峰高變化小于±0.5%

·監測極限：     30 ions/s
·監測生長速率：     1? / min，或更低

XBS Monitor for the Molecular Beam Epitaxy Process (390 KB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)