陳霞
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| 出口壓力 | 高壓 | 燃料 | 電加熱鍋爐 |
|---|---|---|---|
| 結構形式 | 立式 |
thermocera多氣氛晶圓退火爐minilab-WCF
多氣氛晶圓退火設備，可用于各種
工藝環境下的小規模生產
| C/C復合加熱器 | 最高2000°C |
|---|---|
| 碳化硅3涂層加熱器 | 最高1600°C |
| TiC3涂層加熱器 | 最高2100°C |
C/C 復合材料、SiC3 涂層、TiC3 涂層加熱器最高溫度 2000°C確保
安全性和可操作性 僅晶圓退火 從超高溫多氣氛爐的新材料和材料的開發，半導體和電子元件的研發等，可廣泛用于小規模生產應用。
三種類型的爐子加熱器/絕緣材料擴大了碳爐的應用范圍。
C/C復合加熱器
SiC3（碳化硅）涂層加熱器
TiC3（碳化鈦）涂層加熱器
最高工作溫度 2000°C
C/C復合加熱器
TiC3涂層加熱器
碳化硅3涂層加熱器
PLC 半自動操作（真空/吹掃→排氣）
通過觸摸屏 HMI 操作
*全自動操作也是可能的（面議）
爐膛加熱范圍
Φ4寸 ? φ8寸
單晶圓或多級盒（5張）批量類型
很多選擇
自動爐壓調節（APC控制）
用于測量爐中樣品溫度的附加熱電偶
額外的前視口+高溫計，用于爐子測量
坩堝旋轉
全自動控制
通信功能（使用溫度控制功能）或SECS/GEM通信
thermocera多氣氛晶圓退火爐minilab-WCF
| C/C復合線材 | 碳化硅3涂層石墨絲 | TiC3涂層石墨絲 | |
|---|---|---|---|
| 最高工作溫度 | 最高2000°C | 最高1600°C | 最高2100°C |
| 絕緣 | 石墨、氧化鋁、鎢、鉬、氧化鋯等（*因爐內結構而異） | ||
| 真空室 | SUS304水冷夾套結構，頂部加載，線性驅動可打開 | ||
| 使用氛圍 | 在真空或惰性氣體（Ar、N2）中 | 在真空中，惰性氣體（Ar，N2），還原氣體（H2等） | |
| 有效加熱范圍 | Φ4寸 ? φ8寸 | ||
| 極限真空度 | 1x10-2 帕斯卡（* 用于空爐） | ||
| 真空泵 | 干式渦旋泵（可選：渦輪分子泵） | ||
| 熱電偶 | C型熱電偶 | ||
| 聯鎖 | 腔室表面溫度、加熱器超溫、冷卻水滴、腔室開閉、真空度 | ||
| 公用設施和冷卻水 | 加熱器額定值最大 8KVA（* 取決于加熱范圍尺寸），冷卻水最大 8l/min 0.4Mpa | ||
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