YUKEN油研柱塞泵還包括執行氣缸定位裝置供應PV2R1-6-F-RAA-41 PV2R1-8-F-RAA-41葉片泵所述di一Y軸滑動軌道660安裝于承載板622，所述Y軸滑動基臺640呈板狀，所述Y軸滑動基臺640滑動安裝于di一Y軸滑動軌道660；所述Y軸基臺驅動裝置650固定安裝于所述X軸滑動板621，所述Y軸基臺驅動裝置650的工作軸安裝于所述Y軸滑動基臺640。

本方案在Z軸滑動板安裝了XY調整組件600，如此即使執行裝置200具有了X、Y和Z三個自由度的運動，進一步擴大了調整范圍，使執行裝置200能夠更方便的進行調整，在對于型號不同的壓縮機時，可以更快的做出調整，使設備在面對型號不同的壓縮機時，能夠方便快捷的作出調整，本方案在執行裝置200調整方面很方便快捷，提提高了生產效率。

此外，所述Y軸滑動基臺640上表面安裝有X軸微動軌道750；調整裝置400還包括還包括微調平臺700，所述微調平臺700包括X軸微調平臺710和X軸微調驅動裝置720；

所述X軸微調平臺710滑動安裝于所述X軸微動軌道750，所述X軸微調驅動裝置720固定安裝于所述X軸微調平臺710，所述X軸微調驅動裝置720的工作端安裝于所述Y軸滑動基臺640。

在Y軸滑動基臺640安裝了X軸微動軌道750，使裝置在具有了X、Y和Z粗略定位之后，還能夠在X軸方向進一步微動定位，進一步并且相對地提高了執行氣缸221在X軸方向的行程；再者，通過X軸微調驅動裝置720對X軸微調平臺710進行調整，在操作方面簡單快捷。

其中，所述微調平臺700還包括Y軸微調平臺730和Y軸微調驅動裝置740；所述X軸微調平臺710上表面安裝有Y軸微動軌道760，所述Y軸微調平臺730滑動安裝于所述Y軸微動軌道760；所述Y軸微調驅動裝置740固定安裝于所述Y軸微調平臺730，所述Y軸微調驅動裝置740的工作端安裝于所述X軸微調驅動裝置720；

YUKEN油研柱塞泵還包括執行氣缸定位裝置供應PV2R1-6-F-RAA-41 PV2R1-8-F-RAA-41葉片泵所述執行基座210固定安裝于所述Y軸微調平臺730。在X軸微調平臺710通過了Y軸微動軌道750安裝了Y軸微調平臺730，使裝置在具有了X、Y和Z粗略定位以及X軸微調平臺710之后，還能夠在Y軸方向進一步微動定位，X軸微調平臺710和Y軸微調平臺730構成了二級XY定位調整裝置，也就是說，在粗略調整XY之后，再通過X軸微調平臺710和Y軸微調平臺730進一步調整坐標點，從而確定zui優的定位精度；再者，通過Y軸微調驅動裝置740對Y軸微調平臺730進行調整，在操作方面簡單快捷。

此外，所述X軸微調驅動裝置720包括固定于所述X軸微調平臺710的di一X軸微調氣缸721和di二X軸微調氣缸722；

所述di一X軸微調氣缸721和di二X軸微調氣缸722的工作端背向設置，所述di一X軸微調氣缸721和di二X軸微調氣缸722的工作端均固定于所述Y軸滑動基臺640；

所述di一X軸微調氣缸721和di二X軸微調氣缸722安裝于所述X軸微調平臺710的后端。

X軸微調驅動裝置710的結構就是兩個反向設置的氣缸，由于X軸微調平臺710和Y軸微調平臺730的位置較小，相對只能安裝體積較小的氣缸，然而通常情況下，氣缸的推動力越大，氣缸的體積就越大，所以通過反向設置兩個氣缸分別控制兩個方向的驅動；X軸微調驅動裝置710的結構使用小體積的氣缸實現了工作效果，并且占用X軸微調平臺710空間少，相對地在狹小空間內增大了X軸微調平臺710的滑動行程。

此外，所述Y軸微調驅動裝置740包括固定于所述Y軸微調平臺730的di一Y軸微調氣缸741和di二Y軸微調氣缸742；

所述di一Y軸微調氣缸741和di二Y軸微調氣缸742的工作端背向設置，所述di一Y軸微調氣缸741和di二Y軸微調氣缸742的工作端均固定于所述X軸微調平臺710；

所述di一Y軸微調氣缸741和di二Y軸微調氣缸742分別位于所述Y軸微調平臺730兩側。

Y軸微調驅動裝置740的結構也是兩個反向設置的氣缸，由于X軸微調平臺710和Y軸微調平臺730的位置較小，相對只能安裝體積較小的氣缸，然而通常情況下，氣缸的推動力越大，氣缸的體積就越大，所以通過反向設置兩個氣缸分別控制兩個方向的驅動；Y軸微調驅動裝置740的結構使用小體積的氣缸實現了工作效果，并且di一Y軸微調氣缸741和di二Y軸微調氣缸742分別位于所述Y軸微調平臺730兩側，因此占用Y軸微調平臺730空間少，相對地在狹小空間內增大了Y軸微調平臺730的滑動行程。

以上結合具體實施例描述了本發明的技術原理。這些描述只是為了解釋本發明的原理，而不能以任何方式解釋為對本發明保護范圍的限制?；诖颂幍慕忉?，本領域的技術人員不需要付出創造性的勞動即可聯想到本發明的其它具體實施方式，這些方式都將落入本發明的保護范圍之內。