系由于工況惡劣，樣氣中含有大量粉塵及飽和水蒸氣，我們采用當前進的激光氣體分析儀（基于TDLAS技術）分析微量NH3。系統（包括測量池）采用全程加熱，保證樣品氣體溫度，防止有水析出而對NH3的大量溶解影響分析結果。探頭采用電加熱過濾探頭，在取樣出來就完成樣品的凈化，減小了后級預處理的負荷，大大降低了器件的故障率。系統設計有探頭自動反吹程序及儀表自動標零程序，正常運行后僅需要正常的巡檢即可。傳輸管線采用定制230℃以上高溫復合電伴熱管纜，并控制在2m以內（確保盡量少的NH3吸附），整個預處理全部集成在高溫加熱盒內，系統緊湊以避免長距離傳輸管路對NH3的吸附。與傳統的分析方式相比較，系統有以下明顯優勢：

? 利用半導體激光良好的單色性,采用“單線光譜"技術避免背景氣體吸收的干擾；

? 利用半導體激光波長的可調諧性解決粉塵、視窗污染對測量的影響；

? 實地測量，氣體信息不易失真，響應速度快，便于對生產過程進行控制；

? 系統支持自動校準，減少人工維護；

? 儀器無運動器件，可靠性高,維護方便，運行費用接近于零(僅為電費)；

? 可自動修正環境溫度、壓力變化對測量的影響，確保測量精度；

? 非接觸測量,有非常強的高溫、高粉塵和強腐蝕等惡劣工業環境的適應能力；

? 往復回返式長光程的分析儀測量池，確保分析靈敏度的同時又大大減小了儀器的體積；

? 全程220℃以上伴熱保溫，熱法測量，避免樣品中水分冷凝吸收NH3；

? 系統緊湊，結構精巧，便于現場安裝；

? 系統自動化程度高，便于長期穩定運行，維護量小。

測量組分:NH3

量程:0-10-20ppm可選

檢測下限:0.1ppm

響應時間:1秒（指儀表的響應時間，而系統響應時間還需要考慮預處理導致的滯后）

校正:出廠設定

氣體壓力:25—2000mbar

線性誤差：1.0%F.S

系統漂移:無漂移

重復性：1.0%F.S

模擬量輸出:4-20mA

數字通訊接口:RS232

電源:220VAC

吹掃氣:儀表級壓縮空氣

環境溫度:-10℃—50℃

伴熱溫度:200℃—250℃

安裝方式:在位式