全譜直讀光譜儀

W5型全譜直讀光譜儀擁有16項技術，可快速的對金屬材料樣品進行元素測定。光學系統采用CMOS檢測器，光譜范圍覆蓋全部典型材料。無論從低含量元素還是到高含量的元素，它都能準確、可靠的分析。公司在行業內擁有光譜多年的生產經驗積累，針對不同材料、不同要求，設計了這款全新的、更具性價比的全譜直讀光譜儀，可滿足金屬制造業、加工業及金屬冶煉用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的應用。

帕邢-龍格結構凹面光柵，全譜覆蓋，滿足客戶對全元素檢測的需求。

直射式光學技術及采用MgF材料制作的光學器件，保證紫外區域的性能。

高分辯率多CMOS讀出系統，更低的暗電流，更好的檢出限，更高的穩定性，更強的靈敏度，滿足N的分析要求。

全數字化智能復合光源DDD技術，帶來*分析性能。

緊湊的設計及半導體控制技術，使得光源具有更好的穩定性、更強的可靠性。

高能預燃技術（HEPS),激發參數調整，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同分析元素的激發要求。

激發臺直接將激發光導入光學系統

開放式樣品臺，滿足大樣品測試要求。

變換電極可對小樣品及復雜幾何形狀樣品分析有更好的性能

視頻識別技術，確保樣品臺激發安全，可監測樣品臺的全景。

智能氬氣流設計及粉塵收集清理裝置

*的氬氣噴射技術，有效消除激發過程中等離子體的飄移，確保CCD檢測器能夠觀測高溫區域光信號，提高精度和穩定性。

激發后，脈沖式氬氣吹掃，提高粉塵去除效果，提升儀器的短期和*穩定性。