詳細介紹
E5000電弧直讀發射光譜儀具有全譜多元素同時分析、分析速度快、分析準確、穩定性好等優點,分析性能達到了*水平。作為粉末樣品元素分析的臺式全譜直讀發射光譜儀,E5000發射光譜儀擁有創新的高功率數控電弧光源、全自動激光對準的光源裝置、穩定可靠的帕型-龍格全譜分光系統以及陣列CCD全譜測量技術,同時,E5000發射光譜儀結合時序分析、光譜自動校正等*技術,電弧直讀發射光譜儀采用固體樣品直接進樣的方法,全面解決了傳統技術分析繁瑣、效率低下、準確性差等問題,是光譜元素分析領域的重大突破。
電弧發射光譜技術與全譜直讀光譜技術結合,新一代固體粉末分析技術;
Paschen-Runge(帕型-龍格)全譜光學系統,能測定需要分析的所有常規元素;
緊湊的小型臺式設計,確保穩定可靠、易用便捷;
防溢出CCD高速數采系統,信噪比高、動態范圍大;
高功率數控可編程光源,電流、電壓、頻率可控,提供更優的分析方法;
多重連鎖和監控,確保操作安全可靠;
全自動電極激光對準系統;
粉末樣品直接進樣,方便迅速;
一鍵激發,立刻獲得分析結果;
內置工作曲線,客戶無需手動建線,切實提高工作效率;
軟件開放所有高級功能,為客戶提供完美的方法開發平臺。
E5000發射光譜儀全譜測量技術
全譜平臺擁有豐富的譜線信息,更易于元素擴展與方法開發;
基于全譜測量的數據,能夠正確區分背景和譜線,有效提高測量精度;
- 方便查看譜線及干擾情況
- 支持斜背景、左右背景等不同的扣除方式
強大的自動譜線去干擾算法;
- 通過算法扣除干擾譜線獲得干凈的待分析譜線
- 基于全譜測量數據的多峰擬合技術可將譜線*分開,有效消除譜線的干擾
根據元素的含量范圍選擇不同的分析譜線,大含量范圍的測量更準確;
- 多譜線結合,擴展分析范圍的同時,有效保證分析精度;
- 避免靈敏線飽和,不需要消釋樣品,取得更大的分析范圍;
CCD高速數采系統
防溢出線陣CCD;
采用動態積分,有效擴展CCD的動態范圍;
Paschen-Runge(帕型-龍格)全譜光學系統
恒溫型全固定光學系統;
全反射式光路;
光室結構緊湊;
一體式固定;
光學器件少,性能穩定;
基于CCD的全譜采集和分析;