| 徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200性能 | ||
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| • *重現結果：運行自動化的進程，并協助參數設置 • 小巧緊湊：設計緊湊，占地面積小節省了實驗室空間 • 容易清洗：具備可拆卸門、卷簾、內部屏蔽、光源、 載物臺 • 操作簡便：直觀的觸摸屏和一鍵式操作 | ||
| 徠卡低真空鍍膜儀-Leica EM ACE200技術參數 | ||
| 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式，或者雙模式， 可選輝光放電（用于網格表面親水化） | ||
| *設計脈沖式碳絲蒸發方式，可準確控制碳膜厚度 | ||
| 可選石英膜厚檢測器，準確控制鍍膜厚度，精度達0.1nm | ||
| 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程 | ||
| 觸摸屏控制，簡單方便 | ||
| 真空度≤7x10-3mbar | ||
| 濺射電流：0-150mA可調 | ||
| 方形樣品倉創新設計，樣品倉尺寸：140mm（寬）x145mm（深）x150mm（高） | ||
| 工作距離調節范圍：30-100mm | ||
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