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plasma離子清洗機射頻電源

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更新時間：2024-05-01 08:33:09瀏覽次數：151次

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產品簡介

plasma離子清洗機射頻電源，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果。

詳細介紹

plasma離子清洗機射頻電源，

等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。等離子體清洗技術的特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，可實現整體和局部以及復雜結構的清洗。

plasma離子清洗機射頻電源

供電電源	AC220V（AC110V可選)
工作電流	整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)
射頻電源功率	150W
射頻頻率	13.56MHz
頻率偏移量	＜0.2MHz
特性阻抗	50歐姆，手動匹配
耦合方式	電容耦合
真空度	≤50Pa
腔體材質	高純石英
腔體容積	2L(內徑110MMX深度220MM)
觀察窗內徑	Φ50
氣體流量	0—50ml/min（其他量程可選）
過程控制	過程手動控制
清洗時間	手動開關
開蓋方式	鉸鏈側開式法蘭
外形尺寸	450x450x360mm
重量	23Kg
真空室溫度	小于65°C
冷卻方式	強制風冷
標配	KF16真空管1米，kf16卡箍2個，不銹鋼網匣1個，電源線一根，說明書一本。