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萊特萊德北京水處理設備公司
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電子芯片清洗用超純水設備-50T/H
一、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H概述
電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的產水量是每小時50噸，出水水質滿足工業清洗行業用水要求。電子芯片清洗用超純水設備主要由超濾設備、反滲透設備、離子交換設備、EDI裝置等組合而成。
二、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的優勢分析
1、工藝的設計細微周到，元件的材質、性能、設計的流量、流速、壓力等均符合國家的標準規范及國外材料商的規定要求。
2、制水過程高度自動化，自動進水，自動制水，純水箱滿水自動停機，用水后自動恢復，可*實現無人值守的運行。
3、可選用可編程控制(PLC)，計算機觸摸屏控制，遠程數據采集及監控等*技術，使產品更具現代化特色。
三、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的工藝流程
1、采用兩級反滲透方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透 →PH調節→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點。
2、采用EDI方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點。
3、采用離子交換方式，其流程如下：
原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點。
四、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的技術指標
(1) 脫鹽率大于99.9%，效率遠遠高于兩級反滲透和單純的離子交換。
(2) 較傳統的離子交換法脫鹽節約樹脂95%以上。
(3) 離子交換樹脂不需使用酸堿再生，節約大量酸堿和清洗用水，降低勞動強度。
(4) 清潔生產，無廢水處理問題，利于環保。
(5) 自動化程度高，易維護，可設計成完善的膜技術高純水生產線。
(6) 產水電阻率15-18MΩ.cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，*無菌。
(7) 占地面積小，單一系統連續運轉，不需建設備用系統。
五、電子芯片清洗用超純水設備-50T/H的水質指標
| 型號 | 電阻率 | 氧化矽 | 重金屬 | KMnO4 | 鈉 | 氨 | 微生物 | PH值 |
| CAP-Ⅰ | ≥10 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
| CAP-Ⅱ | 0.5 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.01 | 0.01 | 微少 | 6-7 |
| CAP-Ⅲ | 0.2 | 0.01 | 0.01 | 60 | 0.1 | 0.1 | 微少 | 6-7 |
| NCCLS | ≥10 | 0.05 | —— | —— | —— | —— | 10 | —— |
電子芯片清洗用超純水設備運行穩定，耗能低，產水水質符合國家相關水質標準。萊特萊德作為專業的水處理設備生產廠家，我們生產的超純水設備具有專業的技術優勢和可靠性。萊特萊德是集設計、制造、銷售于一體的大型水處理生產廠家，我們售后服務好，品質有保證，歡迎廣大用戶光臨選購。
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