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更新時間:2023-08-28 19:33:01瀏覽次數:196次
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SM-200具有高度的均勻性和可重復性,以及操作方便和操作舒適性
SM-200具有高度的均勻性和可重復性,以及操作方便和操作舒適性。創新的RCCT系統(圓閉室技術)有效地減少了旋轉基底上的空氣湍流,提高了涂層的均勻性,因為封閉室內的大氣,溶劑迅速被飽和,揮發更慢,使涂層過程更均勻,顯著節省了消耗的介質。
HP-200是為光刻、MEMS和類似應用中的精密熱處理工藝而開發的。默認溫度范圍設計為高達250°C。設定溫度和溫度分布更精確,這意味著可以實現高涂層質量。HP系列具有高度的一致性和高精度的工藝重復性。它可用于直徑達200mm,厚度為18mm的基板。
? 最多可編程50個節目,每個節目有24個片段
? 重復流程的快速啟動功能
? 具有觸摸屏面板的用戶友好流程配置
? 過程參數:速度、加速度、時間
? 可選擇旋轉方向(CW、CCW)
? RCCT系統(圓形密閉室技術)
? 為最多4條介質線準備的動態分配臂
? 基板的手動裝卸
? 通過真空和安全聯鎖保護固定基板
? 過程完成時的聲音信號
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