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鄭州科探儀器設備有限公司
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金屬磁控濺射儀， 外形小巧 ，功率電流大小可調，觸摸屏控制，有工藝儲存功能，外配水冷機可長時間工作。
金屬磁控濺射儀這是一種易于使用的基本儀器，用于SEM試樣的鍍金。它具有全可變電流控制、帶暫停選項的數字過程定時器、可變高度試樣臺、鉸鏈頂板和 O 形圈密封真空室。該控制裝置允許獨立于氣體壓力設置濺射電流，氣體壓力由手動泄漏閥單獨調節。覆蓋面和晶粒尺寸針對任何試樣進行了優化,徑目標的冷磁控管型磁頭能夠以最小的加熱實現高效的濺射。鍍膜時間由帶有數字讀數的定時器設置并存儲在存儲器中。真空狀態和濺射電流顯示在C觸摸屏上。
金屬磁控濺射儀廠家供應技術參數；
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
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