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東莞市沃德普儀器有限公司
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靈活的系統組合、的成像性能、穩定的系統結構，MX6R系列專業應用于工業檢測及金相分析領域
靈活的系統組合、的成像性能、穩定的系統結構，MX6R系列專業應用于工業檢測及金相分析領域。
各項操作根據人機工程學設計，大限度減輕操作者的使用疲勞。其模塊化的部件設計，可對系統功能進行自由組合。涵蓋明場、暗場、斜照明、偏光、DIC微分干涉等多種觀察功能，可根據實際應用，進行功能選擇。
■ 采用無限遠色差校正光學系統
■ 長工作距、明暗場兩用平場消色差物鏡，成像清晰、像面平坦
■ 配備反射式柯拉照明系統，為不同倍率的物鏡提供均勻充足的照明
■ 正像三通觀察筒，25°傾斜，極大的提高了觀察的舒適性與操作的適應性
■ 配備了4寸帶離合器的機械平臺230X215mm，行程105mmX105mm，可快速移動
■ 舒適人機學設計，高剛性鏡筒，“Y”型底座，調焦機構采用前置式操作控制，精微調同軸
■ 光源采用寬電壓數字調光技術，具有光強調定與復位功能
■ 可選配攝影攝像裝置、簡易偏光裝置、干涉濾光片、測微尺等附件，拓展應用領域
| 配 置 | 參 數 | |
| 型號 | MX6R | MX6R（透反） |
| 光學系統 | 無限遠色差校正光學系統 | |
| 觀察方法 | 明場/斜照明/偏振光/DIC | 明場/斜照明/偏振光/DIC/透射光 |
| 觀 察 筒 | 正像觀察筒，25°鉸鏈式三目，分光比，雙目：三目=100：0或0：100 | |
| 目 鏡 | PL10X/22平場高眼點目鏡 | |
| 轉 換 器 | 5孔內傾式明暗轉換器，帶DIC插槽 | |
| 物 鏡 | 無限遠長工作距明暗場金相物鏡5X LMPL5X /0.13 WD11mm | |
| 無限遠長工作距明暗場金相物鏡10X LMPL10X /0.25 WD9.5mm | ||
| 無限遠長工作距明暗場金相物鏡20X LMPL20X /0.4 WD3.4mm | ||
| 無限遠長工作距明暗場半復消金相物鏡50X LMPLFL50X /0.6 WD7.5mm | ||
| 無限遠長工作距明暗場半復消金相物鏡100X LMPLFL100X /0.80 WD2.1mm （選配） | ||
| 調焦機構 | 粗微調同軸、粗調行程33mm，微調精度0.001，帶粗調機構上限位及松緊調節裝置。內置90-240V寬電壓變壓器，單路電源輸出 | |
| 載 物 臺 | 4英寸機械移動平臺,低手們粗微同軸調節,平臺面積230X215mm,移動范圍：105X105mm,含金屬載物臺板，右手位X、Y移動手輪，配平臺接口 | 4英寸機械移動平臺,低手們粗微同軸調節,平臺面積230X215mm,移動范圍：105X105mm,含玻璃載物臺板，右手位X、Y移動手輪，配平臺接口 |
| 顯微鏡鏡體 | 粗微調同軸、粗調行程33mm，微調精度0.001mm,，帶粗調機構上限位及松緊調節裝置。內置90-240V寬電壓變壓器，單路電源輸出 | 粗微調同軸、粗調行程33mm，微調精度0.001mm,，帶粗調機構上限位及松緊調節裝置。內置90-240V寬電壓變壓器，雙路電源輸出 |
| 反射照明系統 | 帶可變視場光闌與孔徑光闌，均可調中心；帶濾色片插槽與偏光裝置插槽；帶斜照明切換拉桿，12V100W鹵素燈，光強連續可調 | |
| 偏光附件 | 檢偏鏡可360度旋轉，起偏鏡和檢偏鏡均可移出光路 | |
| CTV接口 | 1X（標配）、1/2X（選配） | |
| 透射照明系統 | / | 單顆大功率5W LED，白色，光強連續可調。N..A.0.5聚光鏡，帶可變孔徑光闌 |
采用6寸平平臺設計，行程158×158mm，可適用于對應尺寸的晶圓或FPD檢測，也可用于小尺寸樣品的陣列檢測。
轉換器采用精密軸承設計，轉動手感輕巧舒適，重復定位精度高，物鏡轉換后的同心度也得到較好的控制。
工業檢測級顯微鏡鏡體，低重心、高剛性、高穩定性金屬機架，保證了系統的抗震能力與成像穩定性。
其前置低手位粗微調同軸調焦機構，內置100-240V寬電壓變壓器，可適應不同地區的電網電壓。底座內部設計有風循環散熱系統，長時間使用也不會使機架過熱。
明場觀察（透射）
5W大功率LED，配以N.A.0.5聚光鏡，可以透照明下，觀察LCD彩色液晶顯示屏，器件框架邊緣等。
透射照明與反射照明為獨立控制，即可同時亮，也可單獨亮。
明場觀察（反射）
遠心坷拉反射照明系統，配以全新設計的無限遠平場消色差長工作距金相物鏡，從低倍到高倍，都能得到清晰、平坦、明亮的高畫質顯微圖像。
簡易偏光觀察
將起偏器鏡及檢偏鏡插板插入照明的位置，即可進行簡易偏光觀察。檢偏鏡可分為固定式和360°旋轉式兩種。
暗場觀察
將暗場照明拉桿拉到位置，即可使用暗場功能，可以觀察物體表面的各種劃痕、雜質點及其他細微缺陷，暗場功能只限于MX6R/MX6R（透反）機型。
DIC微分干涉觀察
在正交偏光的基礎上，插入DIC棱鏡，即可進行DIC微分干涉相襯觀察。使用DIC技術，可以使物鏡表面微小的高低差產生明顯的浮雕效果，極大的提高圖像的對比度。
5X、10X、20X專為DIC設計，使得整個視場的干涉一致，微分干涉效果非常出色，高倍物鏡DIC效果也較好。
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