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多通道多功能電化學工作站

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產品型號美國普林斯頓VersaSTAT系列

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更新時間：2024-09-25 17:17:53瀏覽次數：156次

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阿美特克商貿（上海）有限公司科學儀器部普林斯頓及輸力強電化學

經營模式：生產廠家

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產品簡介

高性能的V3電化學工作站將為您的科研帶來*的方便。 1. ?50mA/?0V的極化范圍，支持多數電化學應用：腐蝕、能源、傳感器、生物電化學。 2. 2A電流輸出可選，Z大到20A，支持化學電源、燃料電池、電鍍。 3. 良好的電流測試精度，用于腐蝕、涂層評價以及微電極分析。 4. 內建FRA頻響分析儀（可選），支持電化學阻抗測試，頻率范圍10μHz－1M Hz

詳細介紹

多功能電化學工作站的儀器簡介：

高性能的V3電化學工作站將為您的科研帶來*的方便。

1. ±650mA/±10V的極化范圍，支持多數電化學應用：腐蝕、能源、傳感器、生物電化學。
2. 2A電流輸出可選，zui大到20A，支持化學電源、燃料電池、電鍍。
3. 良好的電流測試精度，用于腐蝕、涂層評價以及微電極分析。
4. 內建FRA頻響分析儀（可選），支持電化學阻抗測試，頻率范圍10μHz－1M Hz

多功能電化學工作站的技術參數：

系統技術參數
電極接線二、三、四電極（并有接地線）
數據采集
數據采集 3x16bit （500k）
時間分辨率 10us
自動噪聲濾波可用
功率放大器
電壓范圍 ± 12V
電流輸出 650mA（標配）、2A（內置選配）
帶寬 1MHz
穩定性高速/高穩定性（可根據具體試驗設置以提高精度）
回轉速度 ≥ 8V/μs
升壓時間（-1.0V to 1.0V） <350ns
電位控制（電位模式）
應用電位 ± 10V
電位分辨率 300nV（±10mV）、300μV（±10V）
電位精度 ±0.2%
zui大掃速 5000V/s
zui大掃速精度 300μV（± 10V）
電流控制
應用電流 650mA—200nA；2A－200nA（可選）
電流分辨率 1/32000全程
電流精度 ±0.2%
zui大電流范圍/分辨率 ±650mA/60uA
zui小電流范圍/分辨率 ±200nA/6pA
差分靜電計
zui大輸入范圍 ±10V
帶寬 ±10MHz
輸入阻抗 1012Ω
漏電流 5pA
共態抑制比（CMRR） 60dB（100kHz）
電位測試
電壓量程 ±10V
電位分辨率 6uV
電位精度 ±0.2%
電流測試
電流量程 650mA—200nA；2A－200nA（可選）
電流分辨率 120fA
電流精度 ±0.2%
帶寬 1MHz
帶寬噪聲濾波有
IR補償
正反饋有
動態補償有
阻抗模塊
模式電位/電流
頻率范圍 10uHz～1MHz
zui小交流電壓 0.1mV
界面
數字輸入/輸出 5TTL/2TTL
輔助電壓輸入 1－10V，阻抗10kΩ, 頻率1kHz, 200kHz，BNC接口
電壓輸出 1－10V ，阻抗1kΩ，BNC接口
電腦/軟件
連接方式 USB模式（即插即用）
操作系統 Win XP; Win2000
電腦配置 P4（1GHz，512MB）
軟件 V3－Stadio
綜述
電壓范圍 250V
體積（長X寬X高） 421X387X89mm
使用溫度范圍 10-50°C
濕度 80%
理想溫度 25°C
Dummy Cell 內建
CE 認證通過

多功能電化學工作站的主要特點：
是一款由普林斯頓集40多年經驗全新研發的滿足多種用途的恒電位/恒電流儀。V3支持進行全面的電化學應用，包含腐蝕、能源、傳感器、納米技術及研究電化學；配備功能強大、應用方便的VersaStudio軟件，使V3成為一款在現今市場上性價比的電化學工作站。

由 VersaSTAT 3 完成的電化學測試技術，可以廣泛使用于腐蝕領域，包含線性極化曲線 Linear Polarization Resistance （LPR）, 電化學阻抗譜Electrochemical Impedance Spectroscopy （EIS）, 以及在不同極化水平下的電化學阻抗譜。

配合VersaStudio軟件的選擇，一系列的伏安法及腐蝕應用都可以實現，例如腐蝕中的多種分析技術，線性極化曲線LPR, 塔菲爾曲線Tafel等。伏安法中的單次及多次循環伏安，階梯及脈沖伏安。電化學阻抗譜測試也可以選擇添加。四種不同功能的 VersaStudio software造就四種VersaSTAT電化學綜合測試系統:
• VersaSTAT100 基本伏安技術
• VersaSTAT200 高級電化學測試技術
• VersaSTAT300 完整腐蝕測試技術
• VersaSTAT400 全功能電化學綜合測試技術
*的VersaStudio軟件支持全系列VersaSTAT電化學工作站，包括大電流擴展和電流放大設備。各種系統綜合性的軟硬件*結合，使VersaStudio可以致力于各個領域中的研究，并且通過不同的預算不斷升級。