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海德創業（北京）生物科技有限公司
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EMS 550/EMS 500全自動離子濺射鍍膜儀、EMS 575T雙頭高分辨率離子濺射鍍膜儀
EMS 575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率鍍膜儀（噴金儀）。EMS-575T樣本放置在旋轉樣品臺上（the rotary stage），蓋好蓋子（the chamber lid），按下啟動按鈕，渦輪分子泵開始加速，5秒鐘后，機械泵開始啟動，同時十秒氣體排空程序啟動，兩個泵同時運行確保一個高真空。當渦輪泵加速，它的速度由柱狀圖來標示，到達速度的一半時，真空計扭至自動狀態。當腔內氣體壓降為10-4 mbar，排氣開始，腔內氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間，排氣的zui后階段，靶材按照預訂鍍膜時間開始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的，不需要關泵，繼續濺射另一種金屬。噴鍍完成后，兩個泵停止，排氣閥排氣。
| 儀器尺寸 | 450mm（W） x 350mm（D） x 175mm（H） |
| 工作腔室 | 硼硅酸鹽玻璃: 165mm（Dia.） x 125mm（H） |
| 加不銹鋼底座 | 110mm（Dia.） x 115mm（H） |
| 重量 | 42Kg |
| 靶材 | 54mm（Dia.） x 0.2mm（Thick） （標準鉻靶材和金靶材） |
| 樣品臺 | 60mm（Dia.） ，以60 r.p.m 旋轉，一定的傾斜度 |
| 真空泵工作范圍 （Penning） | ATM to 1x10-7 mbar，鍍膜腔體極限真空度10-7 mbar |
| 操作真空 | 1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar |
| 濺射電流 | 0-175mA |
| 濺射時間 | 0-4 minutes |
| 功率 | 1000v at 100 ma, 100 watts |
| 沉積速率 | 30nm/min at 100ma |
| 渦輪分子泵 | 60 litres/Second （Ultimate vacuum 1x10-8 mbar） |
| 電源配置 | 230 volts 50Hz （6 amp Max incl pump） |
| Services | Argon Nominal 4 psi |
| 真空泵（*配件） | 附帶真空管和油氣過濾器 |
| 貨號 | 產品名稱 | 規格 |
| 91110-TH | EMS 575T Twin Head Sputter Coater， complete with Target | 臺 |
| 91005 | Rotary Vacuum Pump | 個 |
| 92045 | EMS 50 Water Chiller | 個 |
EMS 550具有旋轉樣品臺，可傾斜，適合各種樣品。參數可預設，全自動控制保證獲得精確的鍍層厚度。低電壓濺射、冷濺射、精細顆粒等功能的使用，大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm（6英寸），非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶（可選）?？蛇x靶材包括金/鈀，鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設計在儀表板上，使用方便，滿足不同學科的用戶使用要求。 濺射參數可預設，包括氣體放氣針閥（此閥為電磁閥），一旦設置，就不需要再調節。濺射頭互鎖，系統可選配EMS250鍍碳附件。
| 儀器尺寸 | 450mm（W） x 350mm（D） x 175mm（H） |
| 工作腔室 | 硼硅酸鹽玻璃: 165mm（Dia.） x 125mm（H） |
| 安全罩 | 聚碳酸酯 |
| 重量 | 18Kg |
| 靶材 | 60 mm 直徑 x 0.1mm 厚（金靶為標準靶材） |
| 樣品臺 | 60mm（Dia.） ，靶面距在25mm－45mm之間可調 |
| 真空泵工作范圍 | ATM-1x10-2 mbar |
| 濺射電流 | 0-50mA |
| 濺射鍍膜時間 | 0-4 minutes |
| 沉積速率 | 0-25nm/分 |
| 電源配置 | 230 volts 50Hz （6 amp Max incl pump） |
| 貨號 | 產品名稱 | 規格 |
| 91000 | EMS 550 Sputter Coater complete with Target | 臺 |
| 91000-MA | EMS 500 Manual Sputter Coater | 臺 |
| 91005 | Rotary Vacuum Pump Targets 60mm （Dia.） x 0.1mm （Thick） fitted inclusive as standard | 個 |
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