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雙盤壓力研磨拋光機廠家 產品概述:
雙盤壓力研磨拋光機主要用于材料研究領域。適用于金屬、晶體、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的研磨拋光,也可用于工廠的小規模生產。該機具有加工精度高,性能穩定可靠,操作簡單,適用范圍廣的特點。本機廣泛應用于大專院校,科研院所以及生產領域。
該機裝備了二個研磨拋光盤,可以把研磨工序、拋光工序分開來做,避免了交叉污染,提高了工作效率。本機提供的壓力穩定可靠,zui大壓力可以達到200N。
雙盤壓力研磨拋光機采用大尺寸彩色觸摸屏操作,界面友好,操作方便。全部操作程序都在機器的上部設定,減少了機器下部進水影響機器運行的風險。
產品參數:
1.磨拋盤(下盤)直徑:φ300mm(雙盤)
2.磨拋盤(下盤)轉速50-400rpm(增量調速,zui小增量10)
3.載樣盤(上盤)直徑:φ150mm 桃形孔直徑:φ25.4mm
4.磨拋頭主軸轉速10-80rpm(無級調速)
5.加載范圍0.5-20Kg(zui小增量0.5Kg)。
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