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   規格參數：

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   描述：

金屬濺射或碳蒸發或兩者兼備：一體化設計，節約空間 

精細顆粒濺射：高分辨率場發射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細鍍膜應用 

渦輪分子泵高真空系統：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材范圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應用，也為許多薄膜應用等材料科研領域提供理想的鍍膜平臺 

全自動觸摸屏控制：快速數據輸入，簡單操作 

可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想 

與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預編程自動真空控制 

精細的厚度控制：使用膜厚監控選項 

“智能”式系統識別：自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型 

高真空碳蒸鍍：對SEM和TEM鍍碳膜應用非常理想 

蒸發電流波形控制 

Drop-in落入式快換樣品臺（標配旋轉臺） 

真空閉鎖功能：可讓工作腔室處于真空狀態，改善后續真空效果，或在真空條件下保存樣品 

鍍制厚膜能力：一次真空條件下的濺射時間可長達60分鐘（材料科研領域的應用） 

人體工程學設計的整體成型機殼：易維護和易拆裝 

帶有本地FTP服務器連接的以太網端口：簡單的程序更新 

設有功率因素補償，有效利用電能，降低運行成本 

符合當前電器法規（CE認證）

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