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三靶射頻磁控濺射鍍膜儀 詳細摘要： 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀配有磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。
產品型號： 所在地：合肥市 更新時間：2020-03-21 參考價：¥ 16 在線留言 -
等離子磁控濺射鍍膜儀系列 詳細摘要： 等離子磁控濺射鍍膜儀系列儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼可旋轉樣品臺，其與濺射頭之間距離可調
產品型號： 所在地：合肥市 更新時間：2020-03-21 參考價：¥ 12 在線留言