目錄:盛美半導體設備（上海）股份有限公司>>集成電路>> 前道涂膠顯影設備
自主保護立體交叉結構（號：.9），提高設備產出率WPH
采用自主設計，優化整機內部氣流分布，減少顆粒污染
精準控制涂膠量，減少光刻膠的消耗
具備多次回吸功能，能夠有效防止噴嘴口結晶
腔體配備獨立排氣裝置，能夠提高光刻膠膜厚的均一性，減少Wet-Particle
配備自主研發的多分區控制的高精度熱板
自主研發的控制軟件，可優化晶圓傳輸路徑，縮短傳輸時間
搭載缺陷檢測功能，可及時發現問題
搭載機械手工位auto-teaching功能，提高效率
支持主流光刻機接口
可適用于300mm晶圓清洗
可配置4個Loadport，多至8個涂膠腔體和8個顯影腔體
可拓展支持12個涂膠腔體及12個顯影腔體，每小時晶圓產能可達300片；
腔體溫度：23°C ±0.1°C ，烘烤范圍為50°C至250°C
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環保在線