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電子產品鹽霧試驗的標準主要包括以下幾個國家標準：

1. GB/T 2423.17—2008/IEC 60068-2-11：1981

• 這是《電工電子產品環境試驗 第2部分：試驗方法 試驗Ka:鹽霧》標準，適用于比較具有相似抗鹽霧腐蝕能力的材料、元件、設備以及評定保護層的質量。

2. GB/T 2423.18—2000

• 這是《電工電子產品環境試驗 第2部分：試驗 試驗Kb：鹽霧，交變（氯化鈉溶液）》標準，涉及鹽霧交變試驗。

3. GB/T 10125－97

• 這是《人造氣氛腐蝕試驗鹽霧試驗方法》標準，適用于金屬基材的表面電鍍及化學鍍處理零件的鹽霧試驗。

4. GB/T 1771—91

• 這是《色漆和清漆 耐中性鹽霧性能的測定》標準，涉及色漆和清漆的耐鹽霧性能測定。

安徽鹽霧試驗機推薦鹽霧試驗中使用的鹽霧溶液主要成分是氯化鈉（NaCl），具體成分和要求如下：

1. 氯化鈉濃度：鹽霧溶液通常按溶解比例為5±1份的氯化鈉，和95份的水配置。

2. 水質要求：水應符合D1193類型Ⅳ中的要求，除了本規程對氯離子的限制外，鈉離子可以忽略。

3. 雜質含量限制：

• 總雜質含量不超過0.3%。

• 除氯離子外的其他鹵素離子（溴離子、氟離子和碘離子）的含量應低于鹽的含量的0.1%（質量）。

• 銅離子含量要小于總量的0.3ppm。

• 不允許添加抗結劑的氯化鈉。

4. pH值調整：鹽溶液的pH值應調整到6.5至7.2之間。

5. 鹽霧沉降率：要求鹽霧的沉降率在1～2ml/80cm2·h之間。

安徽鹽霧試驗機推薦氯化鈉濃度對鹽霧試驗結果確實有影響。以下是幾個關鍵點：

1. 腐蝕速度與濃度的關系：在一定溫度條件下，腐蝕速度是由鹽濃度與溶解在溶液中的氧含量控制的。當溶液中氧含量能滿足電化學反應時，腐蝕速度受鹽濃度控制，即氯離子濃度越大，發生的腐蝕反應越強，腐蝕速度隨濃度的增加而增加。然而，當濃度超過5%后，隨濃度的增加，溶解的氧的含量降低，不能滿足電化學反應的需要，這時腐蝕速度是受溶液中氧的含量來控制。雖然氯離子濃度變大，但此時起主要作用的是氧，所以腐蝕速度隨濃度的增加而變小。

2. 濃度范圍：在5%左右的濃度時，腐蝕速率最高，因此標準中一般都采用5%的氯化鈉水溶液。這是因為在低濃度范圍內，氧含量隨鹽濃度的增加而增加，但當鹽濃度增加到5%時，氧含量達到相對的飽和，如果鹽濃度繼續增加，氧含量則相應下降。

3. 不同金屬對濃度的響應：對于鋼、鎳、黃銅等金屬，腐蝕速度在濃度大于5%時隨著濃度的增加而下降。但對于鋅、鎘、銅等金屬，腐蝕速度卻始終隨著鹽溶液濃度的增加而增加。

4. 標準濃度規定：中性鹽霧試驗所用的鹽溶液一般采用單一的氯化鈉溶液，濃度為5±1%質量比。這個濃度范圍被廣泛接受，因為它能夠提供一個穩定的腐蝕環境，同時模擬自然環境中的鹽霧條件。