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安徽貝意克設備技術有限公司
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用途：本設備是我公司研發用于真空蒸發鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜
用途：
本設備是我公司研發用于真空蒸發鍍光學薄膜、有機物薄膜和金屬薄膜。特別適合于高科技企業、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開發。
主要技術參數：
1. 真空室：∅220mm*H380mm（標配380mm高，若需要LIFT-OFF工藝腔體需加工至500）；2. 可鍍工件直徑：60*60mm,配抽拉式樣品臺，樣品可旋轉；另配備銅基板樣品臺；
3. 極限真空度：優于5*10-5Pa（機械泵系統）、8*10-5Pa（分子泵系統）;4. 抽氣時間：大氣壓~6*10-4Pa小于300min；5. 蒸發：電阻式蒸發電極（2對） 功率：2KW；配備1套數顯蒸發電源，可對兩組蒸發源進行切換使用。
6. 開啟方式：正面開門結構，便于換絲及裝料；7. 真空系統：機械泵真空系統（機械泵+分子泵系統選配）；
8. 水冷循環系統 0.5P；
設備結構介紹：
該設備由真空室、真空機組和電氣系統組成
圓形形腔體，側部抽氣，正面開門。不銹鋼材質，配φ100觀察窗（含防污擋板）、預抽接口、充氣接口；內部有底板、蒸發源（兩組蒸發源相互隔離避免交叉污染），蒸發源上配有手動擋板裝置等；
采用110L分子泵+4L旋片式機械泵。采用真空波紋管連接，配有復合式數顯真空測量儀表。
可根據需要選配流量計，用于進氣流量精確控制。
電氣系統包括真空機組控制、蒸發與烘烤控制、真空測量控制等部分組成。有安全互鎖機構，有效防止誤操作發生。系統配有1套蒸發電源，通過切換選擇上電。
蒸發示意圖
氣路原理圖
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