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北京壯仕科技有限公司
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更新時間:2022-10-11 12:55:19瀏覽次數:208次
產品分類 品牌分類
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經營模式:其他
商鋪產品:30條
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特點特別為SEM樣品鍍導電性薄膜設計體積小巧,操作簡單,容易上手
特別為SEM樣品鍍導電性薄膜設計
體積小巧,操作簡單,容易上手。
擁有小型磁控靶頭,可以鍍金銀鉑等金屬。
輸入電源:220V AC 50/60Hz
功率:200W
輸出電壓:500 VDC
濺射電流:0-50 mA可調
濺射時間:0-120S可調
采用石英腔體,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H
密封:采用不銹鋼平法蘭的O形密封圈
濺射頭可安裝靶材直徑為2英寸,厚度0.1 - 2.5mm
濺射時間1-120S可調
儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺,其與濺射頭之間距離可調。
可選購加熱型樣品臺,其加熱溫度為500℃
安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進行預濺射。
安裝有KF25真空接口
數字真空壓力表(Pa)
此系統可通入氣體運行
< 1.0e-2="" torr="">
< 1.0e-5="">
可在本公司選購各種真空泵
設備上配1/4英寸進氣口,方便連接氣瓶
設備前面板上裝有一氣流調節旋鈕,方便調節氣流
靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)
此設備標配為銅靶
可在本公司選購各種靶材
可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
L460 mm × W 330 mm × H 540 mm
凈重:20 kg(不包括泵)
CE認證
一年保修,終身技術支持。
特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。
點擊查看售后服務承諾書。
對于濺射各種金屬靶材,需要摸索的濺射參數,下表是本公司實驗所設置的參數,歡迎您帶料來科晶實驗室摸索工藝(僅供參考,詳情請點擊)
靶材種類
真空度(Pa)
濺射電流(mA)
時間 (s)
濺射次數
Au
31-33
28-30
100
1
Ag
31
28
l有時為了達到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜
l在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
l要達到薄膜與基底良好結合,請在濺射前清潔基材表面
l超聲波清洗(詳細參數點擊下面圖片):(1)丙酮超聲,(2)異丙醇超聲-去除油脂,(3)吹氮氣干燥,(4)真空烘箱除去水分。
l等離子清洗(詳細參數點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。
l制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。
l請使用>5N純度氬氣等離子體濺射
l濺射鍍膜機可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射
l由于能量低,該模型不適用于涂層的輕金屬材料如Al,Mg,Zn,Ni。請考慮我們的磁控濺射鍍膜機或熱蒸發鍍膜機。點擊下面圖片查看細節
超聲波清洗機
等離子清洗機
大功率磁控濺射儀
蒸發鍍膜儀
注意:產品內部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。
氣瓶上應安裝減壓閥(不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶頭。
激光粒度測試儀BS--2000/9300
小型直流磁控等離子濺射儀VTC-16-D
小型三靶等離子濺射儀VTC--16-3HD
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