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深圳市邦企創源科技有限公司
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臺式勻膠機適用于微電子、半導體、制版、新能源、生物材料、光學及表面涂覆等工藝，主要應用于溶膠-凝膠(sol-gel)實驗中的薄膜制作，其工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂布在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，
晶圓勻膠機/噴膠機,臺式勻膠機產品均采用觸摸屏加高級PLC程序控制系統，可編程分步運行，精確控制，方便易用;,采用CNC一體化加工成型，內腔內壁呈凹面，有效防止膠液回濺。用于實驗室、旋涂、清洗、顯影、熱板。桌面型勻膠機是一款臺式半自動勻膠機系統，功能強大，具有勻膠、清洗、顯影和干燥等多種功能，樣品尺寸為8寸晶圓或者150mm*150mm方片。
臺式勻膠機產品特色
1. 落地臺式機，結構緊湊，所有單元集成在一臺設備中，集成度高。
2. 手動裝載/卸載
3. 襯底可達 ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)
4. 軟件提供用戶友好的操作
5. 直驅旋涂電機
6. 全軸電機驅動且可編程
7. 帶安全中斷傳感器的透明蓋
8. 外殼上有電源開關 ON / OFF
9. 工藝腔和可更換防濺環，易于拆卸以進行清潔。
10. 系統材料為PP材質，耐所有類型的抗蝕劑和溶劑以及各種清潔介質。
11. 包括 0.5 升廢液瓶
晶圓勻膠機 技術數據
1. 襯底尺寸: 可達 ?200 mm (?8 inch) 或 150 x 150 mm (6 x 6 inch)
2. 電機轉速: 10.000rpm, 步長 1 rpm
3. 電機加速: 4.000 rpm/s
4. 步進時間: 1 至 999.9 s，步長為 0.1s
5. 工藝腔材質: 由天然 PP 制成
6. 系統架構材質: 由白色 PP 制成
7. 液體線路：
8. 3線: 2 x 24 V / 1 Amp (每條) / 觸發點 0.1 秒 - ∞
9. 5線: 6 x 24 V / 1 Amp (每條) / 觸發點 0.1 秒 - ∞
勻膠設備可選配項
1. 自動液體輸送臂 2. 液體罐 3. 防濺環
4. 廢液池 5. DI水沖洗 6. N2吹掃
7. 熱板 8. 不同類型的夾具 9. 中心定位模塊
勻膠機如何選購
勻膠工藝中最重要的一個因素就是可重復性。滴膠之后，下一步是高速旋轉。使光刻膠層變薄達到最終要求的膜厚，這個階段的轉速一般在1500-6000轉/分，轉速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度，溶劑揮發速度，固體含量以及表面張力等)以及基片的大小。
快速旋轉的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉速以及勻膠時間往往能決定最終膠膜的厚度。一般來說，勻膠轉速快，時間長，膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多，這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。微細的工藝參數變化會帶來薄膜特性巨大的差異，下面對一些可變的因素進行分析：
勻膠機旋轉速度 ：
勻膠轉速是勻膠過程中最重要的因素?；霓D速(rpm)不僅影響到作用于光刻膠的離心力，而且還關系到緊挨著基片表面空氣的湍動和基片與空氣的相對運動速度。光刻膠的最終膜厚通常都由勻膠轉速所決定。
尤其在高速旋轉這個階段，轉速±50rpm這樣微小變化就能造成最終膜厚產生10%的偏差。膜厚在很大程度上是作用于液體光刻膠上﹑方向朝基片邊緣的剪刀力與影響光刻膠粘度的干燥(溶劑揮發)速率之間平衡的結果。
隨著光刻膠中溶劑不斷揮發，粘度越來越大，直到基片旋轉作用于光刻膠的離心力不再能使光刻膠在基片表面移動。到這個點上，膠膜厚度不會隨勻膠時間延長而變薄。
勻膠機規格要求在量程范圍內無論選擇哪個速度勻膠轉速偏差不大于±1rpm。而通常實際偏差是±0.2rpm。而且，所有的控制程序和轉速顯示的分辨能力都是1rpm。
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