蔡司Gemini電子光學鏡筒具有以下三個主要特點
?蔡司Gemini物鏡的設計結合了靜電場和磁場,在提高其電子光學性能的同時將它們對樣品的影響降至更低。無漏磁物鏡設計,可以對如磁性材料等高挑戰的樣品同樣地進行高品質成像;
?蔡司Gemini電子束推進器技術,讓電子束經過加速后以高電壓通過鏡筒,最終再減速至設定電壓后進入樣品倉,很大程度地減小電子束的像差,確保在非常低的加速電壓下仍可獲得小束斑和高信噪比;
?蔡司Gemini 鏡筒的設計理念將Inlens二次電子(SE)和背散射電子(BSE)探測器均放置在鏡筒內正光軸上,使兩者均具有更高的信號采集效率且可以同時成像,有效的縮短了獲取圖像的時間,更好地提高工作效率。
蔡司Gemini技術優勢能為您提供以下便利:
?經校準后的鏡筒具有長期的穩定性,您在日常使用時只需要簡易地設定基本的參數,如加速電壓、探針電流等;
?無漏磁的物鏡設計,可對包括磁性樣品在內的各類型樣品進行無畸變、高分辨率的成像;
?Inlens二次電子探測器具有高效的SE 1信號采集效率,給您呈現來自樣品極表面的真實形貌圖像;
?鏡筒內能量過濾背散射探測器以其創新的設計理念,使您在低電壓下可獲得高分辨率、高襯度、以及更真實的樣品材料襯度圖像。