氮氣潔凈烘箱 光刻膠無塵烘箱 百級烘箱 返回列表頁

氮氣潔凈烘箱  光刻膠無塵烘箱   百級烘箱工藝

    不同的勻膠轉速，對應不同的光刻膠厚度，厚度越大，由于曝光的穿透深度以及光的衍射，光刻的分辨率就會越低，并且會在光刻膠側壁形成明顯的梯形。厚度太薄的話，在刻蝕的時候會被刻穿，要根據需要刻蝕的深度選擇合適的光刻膠厚度，從而選擇合適的轉速

在勻膠結束后，使用溫度95°烘5min來提高光刻膠的致密性以及與晶圓的粘附性。

氮氣潔凈烘箱  光刻膠無塵烘箱   百級烘箱指標

潔凈度：Class100、1000     

溫度：RT+15～200/300/400℃；
氣體：N2 

計時功能：可選 

設備材質：內部SUS304不銹鋼           

工作尺寸（mm）：

450×450×500

500×500×550

600×700×800

（可定制）          

網板：活動式2-5塊

運行模式：定值或程式

操作界面：按鍵或彩色觸摸屏

氮氣潔凈烘箱  光刻膠無塵烘箱用途

適用于IC封裝、光刻膠固化、銀膠固化、電子液晶顯示、LCD、CMOS、MEMS、醫藥、實驗室等生產及科研.

驅趕膠中的溶劑

提高膠對襯底的黏附性

提高膠的抗腐蝕能力

優化膠的光學吸收特性

提高涂膠的均勻性

提高條寬控制能力

通過前烘，基片上的光刻膠基本固化。