超純水設備制造的水是純度*的水。集成電路工業中用于半導體原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制備和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固態電子器件、厚膜和薄膜電路、印刷電路、真空管等的制作也都要使用超純水。
超純水：既將水中的導電介質幾乎*去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm極限值。
超純水,是一般工藝很難達到的程度，采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達18.25MΩ*cm
超純水設備是美國科技界為了研制超純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的超臨界精細技術的制水設備，這種水中除了水分子（H20）外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二惡英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，一般不可直接飲用，對身體有害，會析出人體中很多離子。
超純水設備，目前的主要工藝流程
1.預處理----復床 ----混床---拋光樹脂
2.預處理----反滲透---混床---拋光樹脂
3.預處理----反滲透----CEDI膜塊----拋光樹脂
中國國家實驗室分析用水標準（GB6682-92）《分析實驗室用水規格和實驗方法》：
指標名稱 一級水 二級水 三級水
1級水>10MΩ；2級水>1MΩ；3級水>0.2MΩ
PH值范圍（25℃） - - - - 5.0-7.5
比電阻MΩ.cm@25℃> 10 1 0.2
電導率（25℃）us/cm≤ 0.1 1 5
可氧化物[以O計]mg/L -- 0.08 0.40
吸光度（254nm,1cm光程）≤ 0.001 0.01 --
二氧化硅（mg/L） 0.02 0.05 --
蒸發殘渣（mg/L） -- 1.0 2.0
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